Wafermap-Designs basierend auf Zernike Polynomen

In der Halbleiterindustrie ist eine kleine Schwankung (Gleichmäßigkeit) der Ergebnisse vieler Prozessschritte über den Wafer hinweg ein wesentliches Ziel und eng mit der Endausbeute korreliert. Es ist wichtig, ein Urteil über die Homogenität auf der Grundlage einer effizienten Stichprobe von Punkten zu treffen: Typische Abweichungen von diesem Ziel müssen mit einer erschwinglichen (d. h. kleinen) Anzahl von Testpunkten auf dem Wafer erkannt werden.

Leicht zu interpretierende Abweichungen von der Ebenheit können durch Zernike-Polynome beschrieben werden, die dem Stand der Technik bei der Beschreibung optischer Anomalitäten beim menschlichen Auge oder in der adaptiven Optik entsprechen. Dieser Bericht beschreibt Zernike-Polynome und zeigt, wie man mit der Statistiksoftware Cornerstone die Messstellen optimal auf der Waferoberfläche platziert.